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真空材料

【成膜材料】スパッタリングターゲット

概要

高純度、均一組成、高密度、低ガス成分などターゲット材料・蒸着材料に要求される高品質な製品、スパッタリングターゲットを各種取り揃えております。また、ボンディング、バッキングプレートのみの製作も可能です。
使用済みターゲット材の回収についてはお問い合わせください。

仕様・特性・用途ほか

■ターゲット例

材質 仕様 純度(%) サイズ
C 高純度カーボン 99.999 φ4"×6t~5"×20"×6t
Al 真空溶解材 99.99 φ4"×6t~5"×20"×6t
Ti プラズマアーク材 99.8 φ4"×6t~(3N8)5"×18"×6t
Cr 焼結品 99.9 φ4"×6t~5"×20"×6t
Ni 真空溶解材 99.9 φ4"×3t~(4N)5"×18"×3t
Cu 真空溶解材 99.99 φ4"×6t~5"×20"×6t
Zn 大気溶解材 99.99 φ4"×6t~5"×20"×6t
Mo 電子ビーム溶解材 99.9 φ4"×6t~5"×18"×6t
Ta 電子ビーム溶解材 99.95 φ4"×6t~5"×18"×6t
SiO2 合成石英 99.9999 φ4"×6t~5"×20"×6t

※本製品はデバイス生産用に用いることによって生じる二次的損害については責任を負いかねます。また、本製品が現在及び将来の貴社の特定の使用目的に適合していることについては保証できません。あらかじめご了承ください。

 

※記載のデータ等内容は代表的な実験値や調査に基づくもので、その記載内容についていかなる保証をなすものではありません。

※ご使用に際しましては、必ず貴社にて事前にテストを行い、使用目的に適合するかどうかおよび安全性について貴社の責任において確認してください。

※記載の当社製品およびこれらを使用した製品を破棄する場合は、法令に従って破棄してください。

※記載内容は、新しい知見により断り無く変更する場合があります。

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