真空蒸着（vacuum deposition）

真空蒸着（vacuum deposition）とは、真空状態の真空層の中で、アルミなどの材料を加熱して蒸発させ、上部の基板等にアルミを付着させ薄膜を形成する技術のことです。

10^-2 Paより低い圧力の真空容器に蒸発源と基板を置き、蒸発源を加熱して材料（金属や化合物）を蒸発させます。蒸発した原子や分子は、基板上に直進して凝縮して堆積します。この方法は、真空メッキの一つとして広く応用されています。