真空技術辞典
真空技術に関するあらゆるキーワードについて簡単にご紹介します。
薄膜形成・半導体製造に関する用語
- 真空蒸着（vacuum deposition）
- スパッタリング（またはスパッタ）（sputtering）
- イオンビーム蒸着法（ion beam deposition）
- イオンビーム表面改質法（ion beam assist surface modification）
- イオンプレーティング（ion plating）
- プラズマ（plasma）
- プラズマ CVD（plasma CVD）
- プラズマ酸化（plasma oxidation）
- 反応性スパッタエッチング（reactive sputter etching）
- プラズマエッチング（plasma etching）
- イオンビームエッチング（ion beam etching）
- アッシャー（asher）
- ECR プラズマ（ECR plasma）
- 熱 CVD（thermal CVD）
- 分子線エピタキシャル法（MBE: molecular beam epitaxy）
- 有機金属気相成長法（MOCVD: metal organic CVD）
- 真空熱処理（vacuum heat treatment）
- 真空溶解（vacuum melting）
- 真空ろう付け（vacuum brazing）
- イオン浸炭（ion carburing）／イオン窒化（ion nitriding）
- 真空蒸留（vacuum distillation）
- 分子蒸留（molecular distillation）
- 凍結乾燥（freeze drying）
- 真空乾燥（vacuum drying, vacuum dehydration）
- 真空冷却（vacuum cooling）
換算表
真空技術辞典