イオンビーム蒸着法（ion beam deposition）

イオンビーム蒸着法（ion beam deposition）とは、イオン源を使用してターゲット材料を基板上にスパッタリングする薄膜蒸着技術です。イオンビームスパッタ蒸着（IBSD）法、イオンビーム直接蒸着（IBD）法、イオンビームアシスト蒸着（IBAD）法、クラスターイオンビーム蒸着（ICB）法の4種類があります。

IBSD法はイオンビームでターゲット材を衝撃し、スパッタして堆積する方法です。

IBD法はイオンビームと反応性ガスを化学反応させて薄膜を得る方法です。

IBAD法は真空蒸着中に低エネルギーイオンビームを照射して薄膜特性を向上させる方法です。

ICB法はノズルから蒸発元素を噴射し、クラスター（500~1000個の原子が緩く結合した状態）を形成し、その後イオンクラスター化して薄膜を得る方法で運動エネルギーを制御できます。