イオンビーム表面改質法（ion beam assist surface modification）

イオンビーム表面改質法（ion beam assist surface modification）とは、高速イオンビーム(数十 keV~数 MeV)を被処理物に照射し、表面層を改質する方法です。

電子デバイス製造用基板の表面層に不純物を添加するためのイオン注入、または薄膜を堆積中に高速イオンを衝突させて表面層と堆積原子をミキシングし、耐性を向上させるイオンミキシング法があります。