熱 CVD（thermal CVD）

熱 CVD（thermal CVD）とは、薄膜を形成する蒸着法の一つです。

熱エネルギーによって化学反応を行い、薄膜を生成する方法で、常圧法と減圧法があり、基板の加熱には高周波加熱法と抵抗加熱法が使われます。

おもに基板を加熱するコールドウォール型と反応容器を加熱するホットウォール型に分類され、電気的・化学的に安定な薄膜が得られます。

これにより、さまざまな絶縁膜、半導体膜、金属膜を作成できます。また、基板の材質により特定の金属（Al、W、Moなど）を選択的に成長させる選択熱CVDも開発されています。