イオンプレーティング（ion plating）

イオンプレーティング（ion plating）とは、真空中で高エネルギーのイオンを使用し、物質の表面に薄い膜を形成するコーティング手法の一つです。

基板を陰極側に置き、グロー放電を起こし、蒸発源から蒸発したメッキ原子をイオン化または励起して純物質の膜を形成する方と、反応性ガスを導入して化合物の膜を得る方法もあります。