イオンビームエッチング（ion beam etching）

イオンビームエッチング（ion beam etching）とは、イオン源から引き出され、加速されたイオンビームのスパッタリング反応により試料を加工する技術です。

アルゴンなどの不活性ガスを用いたイオンビームエッチングに加え、反応性ガスを用いたRIBE（リアクティブ・イオンビームエッチング）も使用されます。