硬質膜-あらまし

［硬質膜-あらまし］

概要
特長

概要

アルバックテクノが提供する硬質膜では、HCD法・AIP法を主体とした硬質膜を提供しています。
硬質膜は金型・自動車部品をはじめ、真空装置部品・印刷機器部品・医療器・工業材料・産業用・電子機器・民生用電気製品・装飾品など、様々な分野に広く利用されています。

イオンプレーティング膜／スパッタリング膜サービスメニュー

イオンプレーティング処理とは、真空中で蒸発させた金属原子をイオン化し、被処理物に負の電位を印加することにより密着性良く複合被膜を形成させる成膜方法です。
アルバックテクノはイオンプレーティング法の中でも、HCD（ホローカソード放電）法及びAIP（アークイオンプレーティング）法による被膜を提供します。

特長

成膜プロセスと特徴

生産装置は16台保有し、お客様のニーズにお応えするために様々な成膜プロセスをご用意しています。

成膜方法	装置タイプ	成膜種類	特徴	装置台数
HCD法	Batch	Ti TiN TiC TiCN Cr CrN CrCN	成膜面が機材の表面粗さと同等に仕上がる低温成膜（200℃以下）が可能	4台
HCD法	Inline	Ti TiN TiC TiCN	成膜面が機材の表面粗さと同等に仕上がる低温成膜（200℃以下）が可能多量生産に優れる	3台
AIP法	Batch	Ti TiN TiC TiCN Cr CrN CrCN TiAlN AlTiN	成膜面粗さは損なわれるが密着性に優れる合金膜の成膜が可能	4台
イオンアシスト法	Batch	DLC	アモルファス構造のため表面が滑らか潤滑性、摺動性に優れる摩擦係数が小さい（μ＝0.2以下）	1台
スパッタリング法	Batch	Ti系被膜 Cr系被膜潤滑膜貴金属膜	目的に応じた成膜を提案いたします	4台

耐磨耗コーティング法の品質比較

	PVD	CVD	メッキ	溶射
被膜の品位	◎	◎	○	△
被膜密着性	◎	◎	△	△
膜厚の制御性	◎	○	◎	△
被膜種選択性	◎	○	△	△
基材種選択性	○	△	○	◎
処理前後の基材寸法変化	◎	△	◎	○
被膜の付きまわり性	○	◎	◎	△
量産性	○	◎	◎	△